Rey-Merchán, M. del C., Vargas-Jimena, J.M. y López-Arquillos, A. 2022. Tecnoestrés como riesgo psicosocial en las relaciones laborales. TRABAJO. Revista Iberoamericana de Relaciones Laborales. 39, (mar. 2022), 4-13. DOI:https://doi.org/10.33776/trabajo.v39i.4883.