Rey-Merchán, M. del C., Vargas-Jimena, J. M., & López-Arquillos, A. (2022). Tecnoestrés como riesgo psicosocial en las relaciones laborales. TRABAJO. Revista Iberoamericana de Relaciones Laborales, 39, 4-13. https://doi.org/10.33776/trabajo.v39i.4883